溶射とコールドスプレーの専門メーカー  プラズマ技研工業

PLASMA

Thermal spraying 溶射加工

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スパッタリング
ターゲット

スパッタ装置に取付けるスパッタリングターゲットを溶射や
コールドスプレーで製造いたします。
特に円筒型ターゲットではバッキングチューブへのボンディングが困難な長尺もの、
あるいはニオブ、タンタルのような高融点の金属のため鋳込みが
できないものなどへの適用事例があります。
(最大ワークサイズ L4,000×φ160 mm など)

                                                 
対応溶射技術プラズマ溶射 コールドスプレー
基材SUS304 チタン 銅
用途 建材ガラス用Low-E用途 光学膜用途 他

Machining example加工事例

Machining example

Cuスパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Cu
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス
備考溶射膜厚:最大約9mm 母材サイズ:約φ200、長さL:750mm 母材長さ3.8mまで対応可能。

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Ni円筒ターゲット

                                                                     
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Zn、Zn-Al合金、Sn、Sn-Zn合金、
Ni、Ti、Al、Cu、Ag etc.
母材材質ステンレス、チタン、銅 etc.
備考後加工:旋盤加工、フライス加工
ターゲット長さ4 mまで製作可能です。 部分的な補修も可能です。

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Alスパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Al
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス
備考溶射膜厚:最大約7mm 母材サイズ:約φ200、長さL:750mm 母材長さ3.8mまで対応可能。

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Niプレートターゲット

                                                                                    
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Ni
溶射目的プレーナー型スパッタターゲト母材
母材材質ステンレス
備考溶射膜厚:最大約16mm 母材サイズ:幅200mm、長さL:約1.6m 母材長さ3.8mまで対応可能。

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Zn-2Alスパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Zn-2Al
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス
備考溶射膜厚:最大約16mm 母材サイズ:約φ200、長さL:3.2m 母材長さ3.8mまで対応可能。

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Tiスパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Ti
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス
備考溶射膜厚:最大約16mm 母材サイズ:約φ200、長さL:3.2m 母材長さ3.8mまで対応可能。

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Ag大型スパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Ag,Ag合金
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス
備考溶射膜厚:最大約16mm 母材サイズ:約φ200、長さL:3.2m 母材長さ3.8mまで対応可能。

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Ag小型スパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法コールドスプレー
溶射材料Ag,Ag合金
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス
備考溶射膜厚:約7mm 母材サイズ:約φ65、長さL:350mm 母材長さ3.8mまで対応可能。

Machining example

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TiO2スパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法大気プラズマ溶射
溶射材料酸化チタン
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス、チタン
備考溶射膜厚:約6mm 母材サイズ:約φ180、長さL:750mm 母材長さ3.8mまで対応可能。

Machining example

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Siスパッタリングターゲット

                                                                                    
溶射方法大気プラズマ溶射
溶射材料Si ,Si-Al 配合率は任意%
溶射目的スパッタリングターゲト母材
母材材質ステンレス、チタン
備考溶射膜厚:約10mm 母材サイズ:約φ65、長さL:350mm 母材長さ3.8mまで対応可能。

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